[有色金属行业标准] YS/T 26-1992 硅片边缘轮郭检验方法
[电子行业标准] SJ/T 31096-1994 精密硅片磨床完好要求和检查评定方法
[电子行业标准] SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法
[电子行业标准] SJ 20636-1997 IC用大直径薄硅片的氧、碳含量微区试验方法
[国家标准] GB/T 11073-2007 硅片径向电阻率变化的测量方法
[国家标准] GB/T 14140-2009 硅片直径测量方法
[国家标准] GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
[河北省地方标准] DB13/T 1633-2012 太阳能级多晶硅片
[国家标准] GB/T 6621-2009 硅片表面平整度测试方法
[国家标准] GB/T 6619-2009 硅片弯曲度测试方法
[国家标准] GB/T 6618-2009 硅片厚度和总厚度变化测试方法
[国家标准] GB/T 6617-2009 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
[国家标准] GB/T 6616-2009 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法
[国家标准] GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法
[国家标准] GB/T 6619-1995 硅片弯曲度测试方法
[国家标准] GB/T 15615-1995 硅片抗弯强度测试方法
[国家标准] GB/T 14143-1993 300～900μm硅片间隙氧含量红外吸收测量方法
[国家标准] GB/T 14140.2-1993 硅片直径测量方法 千分尺法
[国家标准] GB/T 14140.1-1993 硅片直径测量方法 光学投影法
[国家标准] GB/T 13388-1992 硅片参考面结晶学取向X射线测量方法
[国家标准] GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法
[国家标准] GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
[国家标准] GB/T 24577-2009 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物
[国家标准] GB/T 11073-1989 硅片径向电阻率变化的测量方法