磁控溅射资源列表

[团体标准] T/GVS 017-2024 连续式光学磁控溅射镀膜设备

[团体标准] T/GDSHJXH 010-2025 首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范

[团体标准] T/CAEA 15-2021 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验

[团体标准] T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法

[团体标准] T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

[团体标准] T/CSEA 15-2021 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验

[团体标准] T/ZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材

[国家标准] GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

[有色金属行业标准] YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶

[有色金属行业标准] YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶

[电子行业标准] SJ/T 31273-1994 EVP-13480型磁控溅射机完好要求和检查评定方法

[电子行业标准] SJ/T 31067-1994 S枪磁控溅射台完好要求和检查评定方法

[电子行业标准] SJ/T 10478-1994 磁控溅射设备通用技术条件