GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

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语言版本： 简体中文
标准类别： 国家标准
关键词： 晶片   超薄   厚度   氧化   射线
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标准简介

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适用范围：本标准明确了硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法的技术指标与检验方法，为国家标准的技术体系建设提供重要支撑。

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